일본 다이니혼 프린팅이 2nm EUV 노광용 포토마스크 공정 개발을 본격적으로 시작했다고 발표했습니다.
2023년에 3nm EUV 리소그래피용 포토마스크 제조 프로세스를 개발했고 2nm 개발에 착수했습니다. 2024년에는 2세대와 3세대 멀티 전자빔 마스크 장치 등을 개발합니다.
2025년까지 2nm 세대 개발을 마치고 2027년에 양산을 위한 생산 기술을 세우는 것이 목적입니다. 또 2nm 이후를 위해 차세대 EUV용 포토마크스 공동 개발 계약을 imec와 체결했습니다.