EUV 리소그래피 시스템의 광원으로 자유 전자 레이저(FEL) 기술을 개발하는 스타트업인 xLight의 회장으로 팻 겔싱어가 취임했습니다. 

 

입자 가속기를 사용해 리소그래피 기계에 필요한 광원으로 쓰는 건 예전에도 제시된 아이디어지만, 이 회사는 기존 리소그래피 툴과 호환성을 유지하면서 2028년까지 생산이 가능하다고 주장합니다.

 

EUV 리소그래피는 13.5nm 파장의 EUV 광원을 사용해 매우 작은 회로 패턴을 그려냅니다. 고개율일 경우 8nm, 저개구율은 13nm까지 다양하지만 현재 EUV 리소그래피 시스템을 구축한 곳은 ASML 뿐입니다.

 

하지만 8~13.5nm 해상도의 칩을 제작하는데 필요한 짧은 파장의 빛을 만드는 방법은 여러가지가 있습니다. 그 중 하나가 입자 가속기를 레이저 생성 플라즈마(LPP)의 광원으로 쓰는 것입니다. 

 

ASML의 Twinscan NXE:3600D는 250W LPP 광원을, NXE:3800E는 약 300W 광원을 만들었지만 이 회사는 그보다 4배 강력한 1000W의 광원을 갖고 있으며 2028년까지 상업용 출시가 가능하다고 주장합니다. 

 

이 기술은 웨이퍼 제조 단가를 50% 줄이고 투자와 운영 비용을 세배까지 줄일 수 있다고도 합니다. 진짜일지는 나와 봐야 알겠죠.