캐논의 나노 임프란트(NIL) 반도체 제조 장비인 FPA-1200NZ2C가 출시됐습니다. 

 

반도체 생산에서 가장 중요한 것이 회로 패턴을 웨이퍼에 옮기는 노광 장치인데요. 일반적으로는 웨이퍼 위에 포토 레지스트를 바르고 거기에 레이저를 쏴서 회로를 새기는 방법을 씁니다. 레이저를 쏴야 하니 그 광원 파장을 얼마나 개선하느냐에 따라서 공정 미세화의 성사 여부가 갈립니다. 

 

캐논의 나노 임프란트는 웨이퍼 위의 레지스트에 회로 패턴을 새긴 마스크를 눌러서 회로 패턴을 만듭니다. 레이저를 쏘는 광학계통이 없으니 구조가 간단해지고 전력 사용량이 줄어듭니다. 5nm 공정 노드(선폭 15nm)에서 소비 전력이 1/10으로 줄어든다고 합니다. 또 3D 패턴도 멀티 패터닝이 아니라 한번 눌러서 만들 수 있습니다. 

 

지금은 5nm 노드에 해당되는 선폭 14nm의 패턴을 만들 수 있지만 마스크를 개량해서 2nm 노드에 해당되는 선폭 10nm도 만들 수 있으리라 기대합니다. 

 

설명만 보니 이 좋은걸 왜 지금까지 몰랐나 싶었는데, 몰드를 크게 만들기가 어려워서 대형 웨이퍼를 생산하기는 힘들군요. 어쩐지 예시용 사진의 웨이퍼가 작아보이더라..