캐논이 나노 임플린트 리소그래피 기술을 해설하는 페이지를 올렸습니다.
나노 임플란트 리소그래피는 웨이퍼에 수지(레지스트)를 도포하고 회로 패턴을 새긴 마스크를 눌러서 회로를 만듭니다. 레지스트의 도포 용량이나 마스크와 웨이퍼 위치를 정확히 맞추고, 이물질을 제거하는 방법을 개발해서 이 기술을 완성했습니다. 15nm 이하의 공정까지도 만들 수 있습니다.
기존의 반도체 회로는 레이저를 쏴서 회로를 만드는 노광 방식으로 만들어지나, 나노 임플란트 리소그래피는 구조가 간단하기에 제조 공정이 줄어들고 소비 전력이 줄어들게 됩니다. 또 노광 방식보다 선명한 회로 패턴을 형성할 수 있어 불량률도 낮을 거라네요.