컴퓨터 / 하드웨어
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컴퓨터와 하드웨어, 주변기기에 관련된 이야기, 소식, 테스트, 정보를 올리는 게시판입니다.
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ASML, High-NA로 10nm 패턴 인쇄, 두번째 High-NA 스캐너 발송
ASML은 High-NA EUV 장비를 사용해 10nm 패턴을 인쇄했다고 발표했습니다. 광학 시스템, 센서, 각 단계를 보정을 마쳤다고 하네요. 나중에는 성능을 더 높이고 생산 현장에서도 똑같은 성능을 내는 것이 목표입니다. https://twitter.com/... -
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ASML, 최초의 2nm Low-NA EUV 장비인 트윈스캔 NXE:3800E를 출하
ASML이 트윈스캔 NXE:3800E를 출하했습니다. 2nm와 3nm 공정 생산이 가능한 Low-NA EUV 장비입니다. 어디에 들어갔는지 밝히진 않았으나 TSMC, 삼성, 인텔 중 하나로 보입니다. -
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삼성, High-NA EUV는 메모리에 쓰기 비싸다
SPIE 고급 리소그래피 + 패터닝 컨퍼런스에서 리소그래피 업계 관련 회사들이 다양한 의견을 내놓았습니다. 삼성은 Low-NA EUV가 이미 가동 중이며, 제조사들이 high-NA EUV를 쓰는 것보다 Low-NA로 더블 패터닝을 하거나 고급 패키징을 ... -
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인텔의 High-NA EUV 시스템 운송-설치 영상
인텔이 ASML Twinscan EXE:5000 High-NA EUV 리소그래피 시스템을 받아서 설치하는 영상입니다. 250개의 박스, 전체 무게는 149톤이며 250명의 엔지니어를 동원해 6개월 동안 설치해야 합니다. -
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수소로 냉각하고, 액체 주석 5만방울을 떨어트리는 EUV 노광기
이런 글 옮기는 게 정말 귀찮은데, 이건 정말 재밌게 봐서 한참을 벼르다가 이제야 올려봅니다. 대규모 집접 회로는 이렇게 생산합니다. 웨이퍼를 세척하고 그 위에 산화막을 만들고 회로층을 구성하는 재료 막을 만듭니다. 그 후 빛이 닿... -
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ASML High-NA EUV 장비 가격은 3억 8천만 달러
ASML은 High-NA Twinscan EXE라는 이름의 High-NA EUV 생산 장비 가격이 3억 8천만 달러라고 밝혔습니다. 기존의 Low-NA EUV 생산 장비보다 2배 이상 비쌉니다. ASML은 인텔과 SK 하이닉스에게서 10~20대의 High-NA EUV 장지 주문을 받았... -
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TSMC, High NA EUV 장비 도입을 서두르지 않음
TSMC가 앞으로 5년 안에 High NA EUV 생산 기술을 채택할 가능성이 낮다는 이야기가 나왔습니다. TSMC는 High-NA EUV 장비 주문을 하지 않았으며 2nm 공정에서 이 기술을 사용할 가능성이 없습니다. 1.4nm 공정에서 TSMC의 High NA를 가장... -
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인텔, 내년에 6개의 High NA EUV 장비를 도입
ASML의 High NA(0.55) 짜리 EUV 장비인 Twinscan EXE:5000를 인텔이 최초로 도입합니다. 내년에는 10개의 High NA 장비 중 6개가 인텔에게 갑니다. 인텔은 원래 이 장비로 18A 공정을 생산할 예정이었으나 납품이 늦어지면서 EUV 멀티 패... -
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다이니혼 인쇄, 3nm EUV 노광용 포토 마스크 생산 공정 개발
일본 다이니혼 인쇄가 3nm EUV 노광을 위한 포토 마스크 생산 공정을 개발했습니다. 이 회사는 세계 최초로 멀티 전자 빔 마스크 리소그래피 장치를 도입하고 2020년에는 5nm 공정의 EUV 노광용 포토 마스크 생산 공정을 개발했습니다. 20... -
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ASML, High NA EUV 시스템을 올해 말에 출시
ASML이 High NA EUV 시스템을 올해 말에 출시한다고 밝혔습니다. 거대한 트레일러에 실어 날라야 하는 이 장비는 가격도 비쌉니다. 한대당 3억 2200만 달러가 넘는다네요. 높은 개구율을 지닌 EUV 리소그래피 장비는 최신 공정을 생산하는... -
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SK하이닉스, "D램 EUV 공정 양산의 핵심 요소는 레지스트"
"D램 공정에 EUV를 적용하기 위한 핵심 요소는 '레지스트(PR)'라고 생각한다. 도즈(조사량)가 상승하면서도 쓰루풋(생산효율성)을 크게 저하하지 않고, 균일성도 갖춘 레지스트가 개발돼야 한다. 동시에 이러한 레지스트를 받쳐줄... -
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ASML의 신형 EUV 노광기 가격은 F35 전투기랑 비슷함
ASML의 CEO는 현재 연구 중인 신형 High-NA EUV 노광기의 가격이 3억~3.5억 유로가 될 것이라고 말했습니다. 3억 유로면 한화 4111억 원입니다. F35 전투기 한 대 가격이 1.5~2.5억 달러, 한화 2000억 원이니까 옵션 잔뜩 붙인 최신형 전... -
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ASML, DUV와 EUV 노광기 생산 확장
현재의 거시적 환경은 단기적으로 불확실성을 야기하지만 장기적으로 수요와 용량이 건전한 성장을 보일 것으로 기대합니다. 우리는 연간 생산 능력을 90 EUV 및 600 DUV 시스템(2025-2026)으로 늘리는 동시에 High-NA EUV 생산 능력을 20... -
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SK실트론, 'EUV D램' 웨이퍼 개발…日 의존도 축소
24일 SK실트론에 따르면 지난 6월 10나노급 4세대(1a) D램용 폴리시드 웨이퍼 개발을 완료했다. 하반기 들어 삼성전자, SK하이닉스 등에 공급 중이다. 이번에 SK실트론이 개발 및 양산한 웨이퍼는 최신 D램용이다. D램은 10나노미터(nm)대... -
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TSMC, 일부 EUV 설비 가동을 멈춰 전력 사용량을 줄일 예정
최첨단 공정의 가동률이 떨어지고 있습니다. 앞으로도 한동안은 이런 분위기가 계속될 것 같은데요. TSMC는 올해 말부터 일부 EUV 리소그래피 장비를 꺼서 전력 사용량을 줄일 계획이라는 소문이 나왔습니다. TSMC는 7nm, 5nm 공정에 사용... -
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ASML의 신형 EUV 노광기, 전력 사용량이 10배 증가
7nm와 그 이상의 신형 공정으로 생산하려면 ASML의 최신 EUV 노광기가 필요합니다. 그 가격은 1억 5천만 달러에 달하며 10만개의 부품이 들어가고 2km의 생산 라인이 필요합니다. 이런 거대한 물건이 전기를 조금 먹을리가 없겠죠. 전력 ... -
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ASML의 차세대 EUV 노광기 가동, 핵심 부품이 도착
ASML은 2022년 2분기에 12대의 EUV 노광기를 출하했습니다. 1분기보다 3대가 늘어났지요. 그리고 2분기에는 High-NA EUV 노광기에서 큰 사건이 있었는데, 대물 렌즈, 광원, 작업대 등의 부품이 도착했다는 겁니다. 이것들은 노광기에서 가... -
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인텔 최초의 EUV 노광, 인텔 4 공정의 세부 내용
인텔은 6월의 VLSI 심포지엄에서 자사 최초로 EUV 노광을 쓴 인텔 4 공정을 공개했습니다. 이것은 지난 20년 동안 인텔 공정의 발전입니다. 10nm/10nm 슈퍼핀/인텔 7은 사실상 같은 노드이기에 1개의 노드를 3년 정도 쓰는 셈입니다. 22nm... -
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삼성이 EUV 노광기를 대량 구입, 3nm는 내부에서만 사용?
삼성이 ASML에게서 올해 생산하는 EUL 노광기와 내년에 출시할 High-NA EUV 노광기를 납품받기로 계약했다고 합니다. 삼성은 올해 ASML에게서 EUV 노광기 18대를 인도받는데 이건 4조원이 넘는 가격입니다. ASML은 올해 50대의 EUV를 생산... -
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마이크론, 대만에서 EUV 생산
마이크론은 미국 기업이지만 일본, 싱가포르, 중국, 대만에도 팹이 있습니다. 그리고 대만 타이중에서 올해 말까지 EUV 리소그래피 공정 업그레이드를 진행합니다. DRAM용 1-감마 공정으로 본격적인 생산이 아니라 연구 개발이 목적입니...
