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차세대 EUV 노광 기술의 개발 본격화. 3nm 이후의 미세화를 주도

EUV 노광이 10년 후의 미세화까지 견인 최첨단 반도체의 고밀도 트렌드와 그 예측. 왼쪽의 그래프는 DRAM의 저장 밀도입니다. 2020년대에 연평균 5%~10%의 비율로 고밀도화가 이어집니다. 오른쪽 그래프는 반도체 로직 트랜지스터 밀도로 ...

Date2019.02.10 분석 By낄낄 Reply5 Views6091

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