인텔이 오레곤에 위치한 D1X 팹의 세번째 확장에 착수합니다. 올해 안에 건설을 시작하며, 102,000제곱m 규모의 부지에 공장/발전 시설/부속 시설 등의 건물을 세웁니다.
오레곤은 나름 최신인 10nm 공정을 다루는 팹입니다. 애리조나 Fab 42에선 7nm 공정과 EUV 리소그래피를 도입하는데, 오래곤의 확장 시설에서도 새로운 공정을 도입하지 않을까요.
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