중국 SMIC가 14nm 공정이 완성되어 양산 중이며, 그 다음인 5/7nm 공정을 개발 중이라고 밝혔습니다.
SMIC의 N+1은 14nm보다 전력 사용량을 57% 줄이고 성능을 20% 개선하며 로직 면적을 55~63% 줄이는 것이 목표입니다. 이것이 7nm 공정 급이라고는 하지만 그거보다는 좀 낮고, TSMC N10 수준의 기술이라고 합니다. 어쨌건 EUV를 쓰진 않습니다.
그 다음은 N+2입니다. 14nm에서 파생된 것이나 N+1보다는 발전된 것이기에 5nm로 취급합니다. 그러나 이것도 DUV이기에 멀티 패터닝을 써야하며, 그만큼 수율이 줄어들게 됩니다.