최첨단 공정의 가동률이 떨어지고 있습니다. 앞으로도 한동안은 이런 분위기가 계속될 것 같은데요. TSMC는 올해 말부터 일부 EUV 리소그래피 장비를 꺼서 전력 사용량을 줄일 계획이라는 소문이 나왔습니다.
TSMC는 7nm, 5nm 공정에 사용하는 EUV 노광기 80대를 갖고 있으며, 올해 9월에는 3nm 공정도 EUV 노광기로 생산합니다.
DUV와 다르게 EUV는 고출력 에너지를 사용하며 빛이 여러번 굴절되면서 큰 손실이 발생합니다. 초기 효율은 0.02%밖에 안됐고 지금 양산 중인 제품도 전력 효율이 2%밖에 안 된다고 하네요. 그래서 전기를 많이 쓸 수밖에 없습니다. EUV 노광기는 하루에 3만Wh의 전기를 사용하며 1년에는 천만kWh를 씁니다.