현재 ASML이 출시중인 노광기는 NXE:3400B를 개선한 NXE:3400C입니다. 기본 구조는 같지만 모듈 설계를 사용해 유지 관리가 더 편합니다. 평균 수리 시간을 48시간에서 8~10시간으로 줄였으며, 7nm/5nm 공정을 지원합니다. NXE:3400C의 생산 능력은 현재 125WPH(1시간당 처리하는 웨이퍼의 수)에서 175WPH로 올라갑니다.
3400B건 3400C건 1세대 EUV입니다. 1세대 EUV의 특징은 NA(개구율)가 0.33이라는 데 있습니다. NA가 커질수록 노광기의 정밀도가 높아지지요. ASML은 NA 0.55의 차세대 EUV 노광기인 EXE:5000 시리즈를 준비 중입니다. 주요 파트너는 칼 자이스, IMEC입니다.
EXE:5000 시리즈는 3nm 이후 공정을 대비한 제품입니다. 삼성과 TSMC의 로드맵에는 3nm 뿐만 아니라 2nm, 심지어 1nm도 나와 있는데요. 그 때를 위한 장비가 EXE:5000 시리즈입니다. 빠르면 2021년에 나오지만 그건 샘플이고, 양산은 몇 년을 더 기다려야 합니다. 낙관적으로 봐도 2023년? 2024년은 되야 NA 0.55를 달성한 EXE:5000 시리즈가 나올 듯 합니다.