ASML은 현재 NXE:3400B를 개선한 NXE:3400C를 출시하고 있습니다. 이들 제품의 구조는 같습니다. 하지만 3400C는 모듈화 설계로 유지 보수가 쉽습니다. 그래서 48시간 걸리던 정비 시간이 8~10시간으로 줄었지요. 지원 공정은 7nm와 5nm.
그리고 NXE:3400C의 생산 성능은 125WPH에서 175WPH로 향상됩니다. 하지만 EUV 공정의 1세대일 뿐입니다. NA 개구율이 0.33이라는 점은 그대로입니다.
ASML의 차세대 EUV 노광기는 EXE:5000 시리즈로 NA가 0.55로 늘어납니다. 개발에는 자이스, IMEC 등이 참여합니다. 현재의 노광기와 비교하면 해상력이 70% 정도 늘어날 것으로 기대합니다.