화웨이와 SMIC는 5nm 생산을 위한 4중 패터닝(SAQP, Self-Aligned Quadruple Patterning) 기술의 특허를 제출했습니다. DUV 장비를 활용해서 5nm 공정을 만들 수 있도록 패턴을 4번 에칭하는 것입니다.
이렇게 하면 미국의 수출 제한을 어기는 건 아니지만 생산하는데 걸리는 시간이 더블 패터닝에서 최소 두배가 늘어나고, 불량도 그에 비례해서 늘어나게 됩니다. 그래서 마냥 쉬운 방법은 아니겠지만 EUV 장비를 못 산다면 DUV로 어떻게든 해야겠죠.