IRDS(International Roadmap for Devices and Systems)은 IEEE에서 설립한 조직으로 1965년부터 매년 반도체 영역의 기술 로드맵을 배포해 왔습니다. 얼마 전에는 ITRS(International Technology Roadmap for Semiconductors)로 이름을 바꿨는데, 작년에 IEEE가 IRDS로 이름을 바꿨거든요.

 

하여간 올해 IRDS의 로드맵은 11월이나 되야 발표되가 되며 지금은 백서 정도만 나와 있습니다. 다만 여기에서 꽤나 중요한 내용이 있는데 CMOS 회로가 2024년에 끝날 것이라고 예측하고 있기 때문이지요.

 

 

 

IRDS의 로드맵에 따르면 2015년의 16/14nm 노드가 FinFET에 들어서고 2021년에는 차세대 5nm 공정에서 FinFET가 남아있을 것입니다. 하지만 2019년에 GAA(gate-all-around) 트랜지스터가 성과를 보이면 2024년에 4/3nm 노드에서 FinFET를 완전히 대체할 것으로 보고 있습니다. 이는 전통적인 CMOS 회로가 2024년에 그 명을 다할 것이라 보는 예측의 이유가 됩니다.

 

2024년부터 반도체 공정은 2.5nm, 1.5nm 노드가 있지만 그 이후는 글쎄요. 이런 새로운 공정에서 메탈 피치를 공정 변화의 지표로 삼는 건 몹시 구시대적인 발상이라 보는 듯 합니다. 그리고 트랜지스터는 이쯤 되면 별로 크기가 줄어들지 않아 5nm 노드부터는 딱히 크기 변화가 없을 거라네요.

 

 

물론 CMOS 회로가 2024년에 끝난다 한들 이것이 기술 발전이 없다는 말은 아닙니다. 반도채 재료와 공정에 새로운 기술을 도입, 예를 들면 게르마늄으로 실리콘을 대체해 전기적 성능을 더 높인다던가, 3D 낸드처럼 3D 기술을 도입한다던가 등의 방향으로 발전해 나갈 것입니다.