일본 산업 기술 종합 연구소가 평면도 λ/100에 달하는 평탄한 100mm 유리 기판을 개발했습니다.

 

고정밀 평먼 기판은 반도체, LCD의 노광 장치 마스크 기판, 반사경에 쓰이며, 차세대 노광 장치 EVU엔 모다 정밀도가 높은 마스크 기판이 필요합니다.

 

허나 평평한 기판을 만들기 위해선 기판을 갈아내는 연마 기술은 물론, 그게 얼마나 평탄한지를 측정하는 기술이 필요합니다. 현재 쓰이는 기판의 정밀도는 λ/20 정도였다고 하네요.

 

이번엔 초고정밀도 평면 측정 장치 SDP의 기술을 사용해, 일부 구역의 각도 분포를 측정 장치로 각도를 재서 평면도를 측정합니다. 측정 원리와 장치 구성이 간단하지만 구경 300mm에서 +/- 1mm에 그쳤다고.

 

앞으로 150mm의 대형 평면 기판을 개발해낼 것이며 올해 가을엔 이 기술을 사용한 평면 교정 서비스를 시작할 것이라 합니다.

 

 

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